借助多項(xiàng)新興數(shù)據(jù)中心技術(shù)趨勢(shì)，未來(lái)五年到2020年，眾多數(shù)據(jù)中心得以降低至少30%的物理空間占用率。
Gartner研究總監(jiān)HenriqueCecci認(rèn)為：增長(zhǎng)的密度、虛擬化、遷移至托管設(shè)施以及云計(jì)算都在影響這數(shù)據(jù)中心內(nèi)部的運(yùn)作。
數(shù)據(jù)中心管理者必須跳出現(xiàn)有思維模式，思考更高密度對(duì)能耗、冷卻以及空間的影響，還有自始至終都必須考慮的安全防護(hù)問(wèn)題。
這些管理者們還需要規(guī)劃更好的技術(shù)設(shè)施計(jì)劃，考慮物聯(lián)網(wǎng)可能帶來(lái)的潛在影響，為其廣泛應(yīng)用做好相應(yīng)的準(zhǔn)備。
即使經(jīng)歷這些變革， 數(shù)據(jù)中心設(shè)施還會(huì)繼續(xù)存在很多年 ，Cecci本月在LasVegas召開(kāi)的Gartner數(shù)據(jù)中心、基礎(chǔ)設(shè)施與運(yùn)營(yíng)管理會(huì)議上說(shuō)道。
1、次世代的數(shù)據(jù)中心設(shè)計(jì)
當(dāng)下的數(shù)據(jù)中心，相比之前更多地使用kW每機(jī)架或每平方千米作為單位。例如，幾年前，數(shù)據(jù)中心設(shè)計(jì)多為每機(jī)架4到5kW，而現(xiàn)在則通常達(dá)到每機(jī)架8到12kW甚至更高。
(現(xiàn)在)我們每平方千米可容納更高計(jì)算能力 ，Cecci說(shuō)。
新的技術(shù)，例如超收斂基礎(chǔ)設(shè)施，微服務(wù)和容器，對(duì)每機(jī)架的能源需求也越來(lái)越高，與之相對(duì)的是數(shù)據(jù)中心也需要新的配置和設(shè)計(jì)方法。
自2011年起，新的溫度和濕度準(zhǔn)則幫助我們 重新思考數(shù)據(jù)中心的設(shè)計(jì) ，因此設(shè)計(jì)工作能夠應(yīng)對(duì)不同的限制，他說(shuō)。就這樣，越來(lái)越多的數(shù)據(jù)中心采取模塊化的設(shè)計(jì)方式，以防止過(guò)度規(guī)劃。
我們創(chuàng)造了多區(qū)域數(shù)據(jù)中心 ，他說(shuō)，利用同一個(gè)企業(yè)級(jí)數(shù)據(jù)中心就可滿足不同層次的需求。
這就是影響JeffDittmer工作最大的因素，他是一家位于美國(guó)境內(nèi)的醫(yī)療行業(yè)IT供應(yīng)商的IT總監(jiān)，他所在組織擁有12座數(shù)據(jù)中心，每個(gè)機(jī)架都需要提升密度并提供額外的電源供應(yīng)。
現(xiàn)在我們正更多地關(guān)注大數(shù)據(jù)和數(shù)據(jù)分析，其中一些新的技術(shù)，如收斂基礎(chǔ)設(shè)施和集成系統(tǒng)，已經(jīng)讓我們的能源供應(yīng)有些跟不上了，而要修正這一問(wèn)題并非易事 ，他說(shuō)。
這便是他所面臨的最大挑戰(zhàn)。到目前為止，他說(shuō)自己所管理的數(shù)據(jù)中心的部分機(jī)架所需功率已經(jīng)超過(guò)17kW每機(jī)架。
Dittmer表示已經(jīng)盡力將所有的服務(wù)器資源都用上了。
設(shè)施團(tuán)隊(duì)抱怨說(shuō)他的團(tuán)隊(duì)簡(jiǎn)直是 電表殺手 ，而其他一些人則說(shuō)他們做的很棒。
Cecci認(rèn)為，較好的規(guī)劃可以幫助避免電力瓶頸。建設(shè)一個(gè)新的數(shù)據(jù)中心需要近一年的時(shí)間，這有時(shí)也會(huì)為未來(lái)的電力規(guī)劃制定過(guò)程的挑戰(zhàn)。
2、安全挑戰(zhàn)
Cecci認(rèn)為，物聯(lián)網(wǎng)、云計(jì)算和軟件定義基礎(chǔ)設(shè)施對(duì)安全問(wèn)題的關(guān)注都在持續(xù)增長(zhǎng)。
工業(yè)企業(yè)和政府都在規(guī)范法規(guī)和加強(qiáng)審查，特別是對(duì)銀行業(yè)以及金融業(yè)務(wù)。
我們不能只保護(hù)邊界，還有新類型安全威脅， 他說(shuō)。
安全措施必須集成到整個(gè)流程中，應(yīng)用DevSecOps替換DevOps這樣的辦法，來(lái)確保安全措施可以在全流程中發(fā)揮作用，Cecci說(shuō)。
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